美國半導體設備製造商應用材料公司最近在加州森尼韋爾揭幕了EPIC中心，這是一個由三星電子、SK海力士和台積電等半導體巨頭參與的研發合作中心。EPIC中心的總投資額達50億美元，是全球最大的半導體製程技術和製造設備聯合研發設施，旨在力抗中國記憶體大廠長鑫存儲的崛起。除了三星、SK海力士、台積電、英特爾和美光等創始合作夥伴外，博通、愛德萬測試、鎧俠、史丹佛大學和加州大學柏克萊分校等也在其中。SK海力士執行長郭魯正表示，該公司將透過與應用材料的合作，應對高頻寬記憶體、DRAM和NAND等領域的重大技術轉折。
此全球聯盟的成立與中國力求在半導體領域取得主導地位有關，中國不僅追求半導體自主。由於美國對先進技術實施出口管制，中國與西方國家的技術交流幾乎中斷，中國正由政府主導突破相關限制，迅速提升競爭力。例如，在美國阻止荷蘭艾司摩爾向中國出口極紫外光微影設備後，中國自行開發深紫外光微影設備。因此，中國DRAM龍頭長鑫存儲快速成長，最近宣布已開始量產新一代行動DRAM產品LPDDR6，並計畫率先採用新一代DRAM架構4F²，推出伺服器記憶體DDR5 RDIMM，而三星和SK海力士尚未宣布量產計畫。根據Counterpoint Research等市場研究機構，今年第二季，三星在全球DRAM市場市占率達39%，NAND市占率為29.3%；長鑫存儲市占率達10%，是去年同期的兩倍以上。
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